鋅鎳合金鍍層陰暗原（yuán）因分析鍍層陰暗

 鍍層陰暗多數出現在低電流密度區，偶爾（ěr）也有出（chū）現在中電流密度區或高電流密度區。
低電流密度區（qū）鍍層陰暗可能是鍍液溫度太高，電流密度太小，主鹽濃度太低；
次級光亮（liàng）劑過多或鍍液（yè）中有銅、鋅雜質引起的；中電流密度區鍍層陰暗可能是由次級光（guāng）亮劑太少，有機雜（zá）質過多或有一定量的（de）鐵雜質造成的；
高電流密度區鍍層陰暗可能是鍍液pH太高，初級光亮劑太少（shǎo）或鍍液中有少量的鉻（gè）酸鹽、磷酸鹽及鉛雜質引起的。
此外，鍍前處理不良，鍍件表麵有堿膜或有機物吸附膜，或者底鍍層不好也會（huì）導致鎳層出現陰暗（àn）的（de）現象。
分析這類故障，可以取鍍鎳液先做赫爾槽試驗，假使多（duō）次試驗，赫爾槽的陰極（jí）樣板上（shàng）鍍層狀況良好（hǎo），沒有出現陰暗的現象，
那麽電鍍時出現的故障，可能是鍍前處理不良或底鍍層不好造成的，應該認真檢查電鍍前的情況。
若赫爾槽試驗所得的陰極樣板上出現低電流密度區鍍層陰暗，則可以根據前麵提到（dào）的可能原因進行（háng）分析。
中、高電流（liú）密度區鍍層陰暗，也可用類似的（de）方法進行（háng）試（shì）驗，這裏（lǐ）不再贅述。

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