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電鍍的鍍液與(yǔ)工藝選擇

發布日期:2020/2/14

 (一)鍍液選擇 

鍍(dù)液與工藝參數的選定,是產品進行電鍍(dù)前(qián)必要的工作。鍍液與所用的工藝條件,須由產品(pǐn)的要求來確定。目前能采用的工藝已經很多,不同的配方和工(gōng)藝條件可以 很容易地查到。選(xuǎn)擇(zé)鍍液的配方和配套的工藝,首要的是能針對性地滿足產品的質量要求,其次(cì)便是考慮可能得以實施的環境和條件。

 產品要求電鍍,一般(bān)大多是為了裝飾防護或者增強其功能。無論是何(hé)種目的,所鍍出的鍍層都必須是一層(céng)均勻的完(wán)整覆蓋,這是最基本的要求。如果被鍍件形狀複 雜,或具有小的內孔、凹陷(xiàn)或盲孔(kǒng),或(huò)者材料與表麵很特殊,電鍍工藝就必須細(xì)致研究分析後才確定,以便滿足這些特殊情況。鍍(dù)液(yè)是否能具備足夠的(de)宏觀與微觀分 散(sàn)能力,顯然是必須要考慮(lǜ)的(de)。

 通常(cháng)電鍍溶液的配方大體上可以分為兩類。按照電極上離子交換時具備的形態,簡單(dān)的水合離子和加入絡合(hé)劑或鼇合劑後生成的較複雜離子。在分散能(néng)力、電鍍速 度、鍍層結晶結構和特性等(děng)方麵都有(yǒu)明顯差別。如果零件形狀並不特別複雜,鍍層也能滿足要求時,宜盡量選用(yòng)較簡單的(de)鍍液配方。這樣不僅成本低,易於控(kòng)製和管 理,而且更重(chóng)要的是汙水也較易治理。

 對於一種實用(yòng)的電鍍溶液,下列項目(mù)須著重考慮。

 1溶液的總體濃度

 離子濃度高可以提高容許的極限電流密度。但材料的(de)成(chéng)本也上升。隨之鍍液從槽內帶出的損耗和引起的汙水處理成本也(yě)增加。

  2添加的組分

 鍍液中添加的組分不宜太多,否則難於控製和調整,實際上(shàng)無法(fǎ)保持(chí)工(gōng)藝(yì)的穩定(dìng)。即便是(shì)非分解(jiě)性的組分,也會帶來(lái)分析和調整的困難。組分的壽命也要考慮,會(huì)自 行分解或在電解過程中發生變化、半衰期短的盡量不用。有些(xiē)化合物加入後十分有效,但汙水難於處理的也不宜加入,否則會遇到環境(jìng)汙染的限製。有毒物(wù)質更要慎 加。

 3溶(róng)液的工作溫度

 常溫工作的電(diàn)鍍溶液當然比較理想,可以節省設(shè)備投資和能源消耗。但(dàn)工作溫度區(qū)間不(bú)宜太窄,否則仍避免不了要配備加(jiā)溫設施,甚至(zhì)配備(bèi)冷卻設備。總體來講,鍍 液要求加溫並不一定都會提高成本,這要看實際要保持的溫度和(hé)相應獲得的好處。綜合的效益取決於選擇協調的工藝。

 4相應的配套工藝

 一般地說,選用的鍍(dù)液要具備較高的操作柔性(xìng)。對(duì)操作(zuò)要(yào)求苛刻的鍍液並非好的鍍液。有些鍍液效果雖好,但對輔助工作要求條件很敏感,必將在(zài)生產中窮(qióng)於應付。 鍍液不宜過分(fèn)地要求工藝配套,或者容許參數範圍過窄,以避免難於監控和調整維護。例如(rú)要求表麵準備過嚴,便相應要增加成本和廢品(pǐn)率。

 5研發與生產

 電鍍在很大程(chéng)度上是服務(wù)性的工藝,而其本身(shēn)從化(huà)學和電化學角度也(yě)是一種較複雜的工藝係統。電鍍工藝的選擇實際上還與產品本身的設計和(hé)結構(gòu)、零件的材料(liào)和加 工方法(fǎ)、組件和部件的(de)裝配過程、產品的(de)貯(zhù)存環境和貯存(cún)期、使用的條件與預期壽命等諸多因素息(xī)息相關。自身(shēn)的特點還有工(gōng)藝的(de)穩定性和柔性、與人力資源和環境 要求的協調、材料的供應和能(néng)源配備等等。因(yīn)此,特(tè)別是對於新的工藝研究,必須有中間放大和開發(fā)的過程以找出問(wèn)題(tí),否則不適應和被動常會發(fā)生。

 (二(èr))穩態與(yǔ)介穩沉積

 1穩態沉積

 實現穩態沉(chén)積,可以控製恒定電價,也可以控製恒定電流。恒電位有利於針對極化和析出電位來監控,以便在一定的沉積(jī)電位下控製沉積(jī)的離子品種、合(hé)金成分(fèn)、電 流效率等,並可以(yǐ)省去隨著生產情況(kuàng)變化而調控電流。但是這種操作須用參比電極構成三電極係統,對於大的設備特別是電流分布複雜時生產實踐不易。恒電流操作 控製相對(duì)比較容易,所(suǒ)以(yǐ)在(zài)生產上大多采用控(kòng)製電流的方法。

 通常習慣按照鍍液的要求(qiú),選定適宜(yí)的電流密(mì)度及可容許的偏差範圍,給足所需的電流(liú)密度並使之保持穩定(dìng)。當采用常規的恒穩直流時,這種操作也比較方便。恒定的電流易於直接與法拉第沉積(jī)量相(xiàng)聯係。但是在這種情況下,鍍液的狀態對於沉積速度和質量而言便會是第一位的。

 通常(cháng)采用的鍍液多(duō)為單鹽或加入絡合劑來組(zǔ)成。常用的單鹽有硫酸鹽、氯化(huà)物、氟硼酸鹽等,少數情況也采(cǎi)用氨基磺酸、乙酸、檸(níng)檬酸等複雜(zá)一些的酸鹽。許多單鹽(yán)傾向於在一級電離中便離解為所需的(de)金屬離子(zǐ),並以水化形式存在於溶(róng)液內。

 絡(luò)合型的鍍液通常是加入經選擇的(de)絡(luò)合劑或鼇合劑。例如:氰化物、氨或強(qiáng)堿、焦磷酸鹽、氨三乙酸’(等,一些有機(jī)物也常被采用。這些鍍液往往要經二級電離來(lái)提供所需的(de)金屬離子,因而放電過程的單鹽複雜。但是其極(jí)化(huà)特性和宏觀分散能力一般比單鹽要好。

 這兩類鍍(dù)液維持穩定沉(chén)積的(de)機製並不相同。用簡單鹽類的鍍液常依靠遊(yóu)離的酸堿來調節離子的活度,或利用同離子效應。)*值的監控對這種鍍液也很重要,為此常 須加入緩(huǎn)衝(chōng)劑。導電劑也是常有的組分(fèn),並常有同離子效應的(de)雙重作用。絡合型或加鼇合劑的鍍液須監控其反應後的富裕量(liàng),即遊離的絡合(hé)劑濃度以保持反應(yīng)物(wù)的穩 定和維持絡合平(píng)衡,因而(ér)操作控(kòng)製要複雜一(yī)些。單鹽的溶液有時也采用複鹽,而絡合型的鍍液也可能存在兩種或更多的絡合物(wù)。

 當保持(chí)電(diàn)鍍溶液在恒定的溫(wēn)度、不加攪拌(bàn)並且給定恰當的電流密度(dù)時,如無其他附加因(yīn)素或場強的影響,電鍍過程可以處於(yú)相對的定態。實(shí)際上鍍層的(de)質(zhì)量和沉(chén)積的速度取決於電鍍溶液和工藝參數的穩定。不適當的擾動將損害電鍍質量。

 各種(zhǒng)添(tiān)加劑包括促進細晶、改善分散能力、實(shí)現(xiàn)整平提高平整度(dù)以及使鍍層光亮等目前品種甚多,專用性較強並目效果視情況而異。許多具體的產品業已(yǐ)商品化。這 些添加劑大多是依(yī)靠在電極界(jiè)麵上的吸附來起作(zuò)用,因而往往是複雜結構的有機(jī)物,有時是數種物質混配。這些添加(jiā)劑大體上是通過試驗來尋覓,目前還沒有統一可 行的理論(lùn)指導來挑選。

 添加劑有損耗性和無損耗性的兩類,後者僅因鍍件帶出而消耗。電(diàn)解常使有機物在電極表(biǎo)麵分解,因而添加劑應隨(suí)電鍍量的增加而補充。分解後的(de)產物是否有害也要 考慮,否則在補充添加劑的(de)同時要定期清理鍍液。添加劑中有許多也(yě)帶有表麵活(huó)性,因(yīn)此往往利用表麵(miàn)張力的測試來監控。!!!關係(xì)也是(shì)一種監控的方法(fǎ)。多數(shù)情 況下添加劑的消耗量要通過研發階段及中間放大(dà)過程來(lái)總(zǒng)結。有時在生(shēng)產中不進行測試而按鍍槽的實際生產量(liàng)即安培小時數來(lái)補充添加。許多商品添加劑因為希望成 分保密而建議采用這種添加方法以避免(miǎn)化驗和監測。鍍層質量對添加劑的(de)品(pǐn)種和加入量很敏感,所(suǒ)以要(yào)慎重選擇和監控(kòng),特別是不知道成分(fèn)時,否則易出質量事故。 赫爾槽測試也很有(yǒu)用(yòng)。

2介穩(wěn)沉積

電流密度的大小,在很大程(chéng)度上決定電鍍(dù)的速度,所以一般(bān)都希望能用較高的電流密度(dù)和寬廣的電流密度容許範圍,這樣便能鍍得較快,並且方便操作。寬廣的電流 容許範圍(wéi)有利於大的和(hé)複雜形狀的鍍件取得厚度和(hé)結構較為均勻的鍍層。與此同時,也希望有較高的電流效率和電(diàn)流(liú)效率的穩定性,因為這不僅是鍍速問題,也能減 少能耗。

 實踐上的電流密(mì)度並不等同於理論電(diàn)流的極限,即在傳質控(kòng)製下使電極界麵處的離子濃度降低到(dào)零。實際生產中要求的是能夠(gòu)在被鍍(dù)零(líng)件上鍍出好的鍍層的最高可用(yòng) 的電流密度。在這裏,工(gōng)程需要是主要的(de)考慮。所以,在電鍍生產實踐中應用的電流密(mì)度,或者說一般意義上的極限(xiàn)電流密度要比理論值低很多。高於這個實用的極 限一般隻能用於暫時,例如鍍鉻時,短時提(tí)高起始電流以求獲得(dé)較好的覆蓋。

 傳統的提高可用電流密度的(de)方法首推攪拌。對電(diàn)鍍溶液的攪動,包括機械或空氣攪拌、連續泵送、運(yùn)動鍍件等方法,有助於鍍液內(nèi)的(de)傳質,從而往往可以較大幅度地 提高可用的電流密度。但攪拌必須均勻,否則無法(fǎ)保證產品質量(liàng)的均勻。同時攪拌也可以使溶液內的沉渣漂浮,易於導致鍍層(céng)變壞。

為了(le)消除單純的攪拌所帶來的問(wèn)題,同時也能(néng)在提高鍍速的同時改善鍍層結構和外觀質量,上個世紀年代興起了周期換向電流電鍍的方法。通過短時的將鍍件從陰極 轉為陽極,便(biàn)使鍍層進入一個溶解過程。這種方(fāng)法(fǎ)可以(yǐ)改善鍍層(céng)結構,減少氣孔,同時也有(yǒu)拋光作用而使鍍層更為光滑細致。

 通過電流的周期換向和變動(dòng)以及各種不(bú)同攪拌的方法,可以看到,對於恒定電(diàn)流的維持穩態的沉(chén)積時,如果利用不同場強來施加(jiā)擾動,便有可能獲得較好的效益。實際上可以施加到電鍍過程的種種擾動,可(kě)以包括電(diàn)場、力場、磁(cí)、熱、聲、光等各(gè)個方麵。

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