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功能性電(diàn)子電(diàn)鍍:酸性鍍金
酸性鍍金是隨著功能性鍍金層(céng)的需要而發展起(qǐ)來的技術,在工業領域已(yǐ)經有廣泛的應用,是現代電子和微電子行業必不可少的鍍種。這主要是由於酸性鍍金有著較多的技術優勢。比如光亮度、硬度、耐磨性(xìng)、高結合力、高(gāo)密度、高分散能力(lì)等。
酸性鍍金的pH值一般在3~3.5之間,鍍層的(de)純度(dù)在99.99%以上(shàng)。鍍層的硬度和耐磨性等都比(bǐ)堿性氰化物鍍層的要高,且可以鍍得較厚的鍍層。
典型(xíng)的酸性鍍金工(gōng)藝如下:
氰化金鉀 4g/L
溫度 60℃
檸檬酸銨(ǎn) 90g/L
pH值 3~6
電流密度 lA/dm2
陽極 碳或(huò)白金
改進的酸性鍍金工藝:
氰(qíng)化金鉀 8g/L
硫酸鈷 O.05g/L
檸檬酸鈉 50g/L
溫度 32℃
檸檬酸 l2g/L
電流密度 lA/dm2
用於酸性鍍金的絡合劑除了檸檬酸鹽外,還有(yǒu)酒石酸鹽、EDTA等。調節pH值則可以采用硫酸氫(qīng)鈉等。也有添加導電鹽以改善鍍層性能,比如磷酸氫鉀、磷酸氫銨、焦磷酸鈉(nà)等。選擇(zé)好適當的絡合劑和導電鹽,可以獲得較好的效果(guǒ)。
金鹽的濃度可以在1~10g/L的範圍變化。電流密度的範圍(wéi)則在0.1~2.0A/dm2。在溫度為60~65℃的條件,進行強(qiáng)力攪拌,可以獲得光亮的鍍金層。
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